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集成电路应用
  • 主办单位:上海贝岭股份有限公司
  • 主管单位:中国电子信息产业集团有限公司
  • 国际刊号:1674-2583
  • 国内刊号:31-1325/TN
  • 邮发代号:4-915
  • 全年订价:¥1060.00

集成电路应用杂志

Applications of IC

杂志介绍:

集成电路应用是一本由上海贝岭股份有限公司主办的电力期刊,1984年创刊,月刊。该刊严控学术质量,努力吸引高质量论文,为该行业领域发展建设与科研成果传播做贡献,欢迎大家踊跃投稿或订阅。本刊主要栏目有:产业评论、市场分析、设计与研究、工艺与制造、创新应用、新产品、区域动态、读者信箱。

  • 部级期刊 期刊级别
  • 0.13 影响因子
  • 上海 出版地区
  • 月刊 出版周期
收录信息:

知网收录(中) 维普收录(中) 万方收录(中) 国家图书馆馆藏 上海图书馆馆藏

荣誉信息:

中国优秀期刊遴选数据库 中国期刊全文数据库(CJFD)

集成电路应用杂志简介

集成电路应用杂志创刊于1984年,办刊以来,融指导性、实用性、知识性于一体,发行周期为:月刊,经过杂志社调整,不断提高了刊物的整体质量,在行业内有一定的影响。

集成电路应用投稿须知

预计审稿时间:1个月内

(一)应尽量简洁、准确,一般不超过20字。

(二)参考文献附于正文之后,所列文献必须是文中提及的,与正文相对应的。

(三)文章关键要素,需有英文摘要。

(四)来稿须为作者本人原创,且未公开发表,稿件内容要求文字精炼、层次清晰、观点鲜明。来稿确保不涉及保密信息、署名无争议,因文字、引注、图片等引发的观点或版权问题,皆由作者本人承担。

(五)借喻词一般需用“”号;课题名用“”号,不用“《》”。

集成电路应用发表范例

  • 28 nm锗硅工艺极微小颗粒缺陷监控方法与改善措施研究

    作者:龙吟; 范荣伟; 罗兴华

  • LDD后热处理工艺对28 nm PMOSFET短沟道效应的影响

    作者:朱巧智; 刘巍; 李润领

  • 40 nm CMOS工艺平台多叉指NMOS器件设计与截止频率提升

    作者:王全; 刘林林; 冯悦怡

  • 一种通过优化热处理条件提升CIS器件性能的方法

    作者:王艳生; 焦爽; 秋沉沉; 徐炯

  • 金属硅化物阻挡层刻蚀对一次性编程单元数据保持性能的影响

    作者:黄庆丰

  • 射频器件在片测试结构与去嵌入方法

    作者:王全; 刘林林; 冯悦怡

  • 多腔体密封集成电路的颗粒碰撞噪声检测PIND研究

    作者:李秋枫

  • 基于图像分析的CD-SEM显微视觉清晰度检测技术研究

    作者:姜国伟; 田宝; 章屠灵

  • 一种应用于半导体制造业的支持向量机SVM检测方法

    作者:王艳生; 俞微; 魏峥颖

  • CTP触控模组表面贴装SMT工艺研究

    作者:黄贵松; 邓雄; 崔卫星

集成电路应用数据统计

被引次数统计
影响因子统计
名词解释:

被引次数:指该刊被当参考文献的引用次数,以及被下载次数。

影响因子:指该刊在某年被全部源刊物引证该刊前两年发表论文的次数,与该刊前两年所发表的全部源论文数之比。

主要参考文献期刊分析:
主要引证文献期刊分析:

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